標題：光學材料研究反應裝置

產品概述

光學材料研究反應裝置

一、簡介：光學材料研究反應裝置主要應用于連續相光催化，氣固相光催化，氣液反應光催化，在污染物降解，催化合成，硫化反應，熱催化等領域獲得很好的應用；尤其在光催化二氧化碳CO2還原、光電催化活性評價、VOC的降解分析（非甲烷總烴的降解分析）、苯系物的降解分析、國標乙醛的降解分析、甲醛的光催化、汽車尾氣氮氧化物的降解分析、光催化的固氮反應等。巖征儀器可按照客戶工藝要求，非標定制成套反應系統。

二、系統特點：

1、光熱催化液體燃料評價系統設計方案采用標準PID工藝流程設計，裝置主要元器件均采用國內外：如氣體減壓閥、背壓閥采用美國TESCOM、壓力表采用美國雅思科，歐米茄壓力傳感器；質量流量計采用Bronkhorst，主要管閥件采用Swagelok耐高溫閥等。

2、可視高溫反應器，耐溫500℃，耐壓6MPa；頂端配置進口藍寶石視窗，內進氣管延伸反應器底部，并配置有氣體分布器。反應釜內配置石英杯，要求石英杯大小與反應釜內壁相吻合，保證傳熱均勻無溫差。

3、置配置四個氣路進料（氬氣、氫氣、一氧化碳氣、二氧化碳氣），采用盤管與混合罐一體的結構，可以增大其換熱面積與混合效果。

4、控制儀表采用德國SIEMENS品牌儀表與計算機聯合控制。并設置多級關聯的保護系統，確保裝置系統的設備和操作人員的安全。

5、控制單元集成在計算機控制軟件中。系統內的參數控制均由電腦軟件完成控制（壓力、溫度、流速等）。

6、測溫用熱電偶采用Omega牌熱電偶,反應釜外測溫點3個，釜內測溫點1個。反應釜溫度范圍30-500℃，精度±0.5℃

三、系統備品備件清單表：

序號 名稱 規格型號 品牌 數量

1 機械式壓力表 10Mpa 2.5級 指針 Wika或等同 2

2 氣體過濾器 2um Swagelok 2個

3 單向閥 1/3psi開啟壓力 Swagelok 2個

4 密封圈 石墨密封圈 巖征 6個

5 反應管接頭 316L 巖征 4個

6 循環管 硅膠 巖征 1根

7 熱電偶 KMQXL-125U-6 Omega 2只

8 熱電偶接頭1 RMJ-K-S Omega 2個

9 熱電偶接頭2 SMPW-CC-K-M Omega 2個

10 濾光片 420截止型 YZ 1片

11 濾光片 紫外光 YZ 1片

12 熔斷器 /20A Chnt 10個